La Dra. Tania Sandoval, académica del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María (USM), hizo historia al convertirse en la primera mujer y la primera latinoamericana en recibir el “Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award” otorgado por la American Vacuum Society (AVS).
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El reconocimiento fue entregado durante el simposio internacional anual de la AVS, realizado este año en Charlotte, Carolina del Norte (EE. UU.), donde se reúnen científicos, académicos e investigadores de todo el mundo para compartir avances en ciencia y tecnología de materiales.
Un logro pionero para Chile y América Latina
Este premio se otorga a investigadores jóvenes que hayan obtenido su doctorado hace menos de siete años y que se destaquen por su impacto científico y su contribución a la comunidad AVS.
“Me siento muy honrada de haber recibido este premio, porque en la división de Thin Film hay investigadores de muy alto nivel desde etapas tempranas de su carrera. Creo que este reconocimiento refleja el trabajo que hemos desarrollado en el laboratorio Nanolab junto a mi equipo”, señaló la Dra. Sandoval.
Además, destacó la importancia del reconocimiento para visibilizar el trabajo de las mujeres en áreas científicas altamente masculinizadas:
“Estoy feliz de ser la primera mujer en recibir este premio. En Thin Film la mayoría son hombres, principalmente de Estados Unidos y Europa. Me enorgullece posicionar al laboratorio y a la USM a nivel internacional”.
Ciencia chilena en el escenario global
Durante el encuentro, la investigadora presentó la charla “Descriptor-driven analysis of inhibitors for AS-ALD processes”, donde dio a conocer los principales avances de su equipo en el control de superficies y deposición selectiva de materiales.
La Dra. Sandoval asistió al evento acompañada por Lucas Lodeiro y Matías Picuntureo, integrantes de Nanolab, quienes también realizaron presentaciones sobre el trabajo del laboratorio. Además, se presentaron dos exposiciones conjuntas con la Universidad Técnica de Eindhoven (Países Bajos), resultado de colaboraciones internacionales en el área de nanotecnología aplicada.
“Hemos trabajado por mantener una red internacional de colaboración y visibilizar la ciencia que hacemos en Chile. Es un orgullo demostrar que desde nuestro país podemos estar presentes y ser valorados en plataformas científicas globales”, destacó Sandoval.
Sobre la American Vacuum Society (AVS)
La AVS es una organización científica internacional con sede en Estados Unidos, dedicada a promover el intercambio de conocimientos entre académicos, industriales y expertos en nanotecnología, materiales y física aplicada. Con más de 4.500 miembros en todo el mundo, la asociación fomenta la colaboración interdisciplinaria y la difusión de avances en síntesis, interfaces y procesamiento de materiales.
